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・ガスバラスト機構、強制給油機構、油の逆流防止機構を装備しています。・性能をさらに追求し、静音性、安全性、機能性を高めた上級機種です。・ガスバラスト機構により、吸引する気体中の水分などを除去し、ポンプ油中に溶解することを防ぎます。・Gシリーズをグレードアップしたタイプです。・小型、省スペース。低騒音、低振動。低消費電力です。用途・理化学実験用、分析機器用、レーザー応用機器。・真空排気装置、電子顕微鏡のバック。・半導体製造装置、スパッタ装置、真空蒸着装置。・真空乾燥器、凍結乾燥器。仕様・排気速度(L/m当社管理番号353-8745
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GLD051
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・ガスバラスト機構、強制給油機構、油の逆流防止機構を装備しています。
・性能をさらに追求し、静音性、安全性、機能性を高めた上級機種です。
・ガスバラスト機構により、吸引する気体中の水分などを除去し、ポンプ油中に溶解することを防ぎます。
・Gシリーズをグレードアップしたタイプです。
・小型、省スペース。低騒音、低振動。低消費電力です。用途
・理化学実験用、分析機器用、レーザー応用機器。
・真空排気装置、電子顕微鏡のバック。
・半導体製造装置、スパッタ装置、真空蒸着装置。
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